Samsung Foundry: 1-nm-Fertigung soll 2029 in Massenproduktion gehen
Die Samsung Foundry hat schwere Jahre hinter und vor sich. Davon unbeeindruckt soll der Hersteller die Entwicklung einer 1-nm-Fertigung gestartet haben, die 2029 ihre Serienreife erlangen soll.
Der nächste Schritt der Samsung Foundry in Form des 1,4-nm-Prozesses steht zwar wohl auf wackeligen Beinen, doch das südkoreanische Unternehmen lässt sich davon nicht beirren und bereitet sich Berichten zufolge schon für die Zeit danach vor. Wie das südkoreanische Portal Sedaily berichtet, hat das Samsung Semiconductor Research Institute die Entwicklung des 1-Nanometer-Prozesses (1 nm) offiziell gestartet.
Hierfür hat Samsung ein spezielles Entwicklungsteam zusammengestellt, um den vom Hersteller selbst als "Traum-Halbleiterprozess" bezeichneten Fertigungsprozess voranzutreiben. Die Mannschaft besteht dem Bericht zufolge primär aus denselben Forschern, die zuvor an der Entwicklung des 2-nm-Verfahrens beteiligt waren.
Verschiedene Quellen geben unterschiedliche Zeitrahmen für Samsungs 1-nm-Ambitionen an. Während ältere Berichte von Mai 2024 andeuteten, dass Samsung möglicherweise schon 2026 erste 1-nm-Chips liefern könnte, deuten die aktuelleren Informationen darauf hin, dass die Massenproduktion erst 2029 beginnen wird. Aktuell befindet sich Samsung in der Fertigung von 3-nm-Chips mit Gate-All-Around-Technologie (GAA), hatte dabei jedoch wohl Schwierigkeiten, große kommerzielle Kunden für diesen Prozess zu gewinnen.
Nach aktuellem Stand plant das Unternehmen die Einführung einer neuen 2-nm-Fertigung (SF2) für Ende 2025. In seiner offiziellen Roadmap hatte Samsung zuvor die Massenproduktion von 1,4-nm-Chips für 2027 angekündigt. Die Gerüchte rund um die 1-nm-Entwicklung könnten indes eine Änderung dieser Roadmap nach sich ziehen. Es ist jedoch auch möglich, dass Samsung parallele Entwicklungspfade verfolgt oder die Bezeichnungen seiner Prozesse anpasst.
Um diesen 1-nm-Prozess überhaupt zu ermöglichen, arbeitet Samsung derzeit an einem "neuen Technologiekonzept, das die Form bestehender Designs durchbricht, sowie die Einführung von Geräten der nächsten Generation wie High-NA EUV-Belichtungsgeräten". High-NA EUV (Extrem-Ultraviolett) bezieht sich auf eine fortschrittlichere Version der bereits verwendeten EUV-Lithographie-Maschinen, die eine noch präzisere Strukturierung ermöglichen.
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Quellen: via TechPowerUp und Wccftech
