Effizienter Quantentransistor: MIT erreicht mehr als mit Silizium möglich ist

3
News Valentin Sattler Als bevorzugte Quelle auf Google hinzufügen
Effizienter Quantentransistor: MIT erreicht mehr als mit Silizium möglich ist
Quelle: Intel Foundry Services

Das MIT hat mithilfe von Galliumantimonid und Indiumarsenid einen Transistor gefertigt, der besser schaltet, als es mit Silizium möglich ist. Gesponsert wird die Forschung dabei von Intel.

Während Transistoren vor 20 Jahren einfach immer weiter verkleinert werden konnten, um ihre Eigenschaften zu verbessern, ist das inzwischen längst nicht mehr möglich. Foundries verlassen sich deshalb derzeit auf komplexere Bauformen wie FinFET- und GAA-Transistoren sowie den Einsatz anderer Materialien, um die Dichte und Effizienz irgendwie weiter zu erhöhen. Die Zukunftspläne für Silizium-Transistoren reichen dabei noch über viele Jahre, doch gleichzeitig wird auch am Einsatz anderer Halbleiter geforscht.

Transistor ohne Silizium

Ebendiese könnten die technischen Limitierungen, mit denen Siliziumtransistoren zu kämpfen haben, aufweichen. Dass das möglich ist, zeigt dabei derzeit das MIT: In einem auf Nature veröffentlichten Paper wird ein Transistor auf Basis von Galliumantimonid und Indiumarsenid beschrieben, der schon jetzt bessere Schaltflanken haben soll, als es mit Silizium überhaupt möglich wäre. Sprich: Pro Spannung wird besonders viel Strom geleitet.

Möglich wird das laut den Forschern durch einen Quanteneffekt - das Tunneln. Dadurch können Elektronen Atombarrieren überwinden. Eine Ausprägung dieses Effekts kommt beispielsweise schon heute in NAND-Speicher zum Einsatz. In Zukunft könnte er aber auch im Leitungskanal von Transistoren genutzt werden. Neben den steilen Schaltflanken soll das auch niedrige Schaltspannungen und damit eine höhere Effizienz ermöglichen. Der im Paper genannte Betriebspunkt liegt dabei bei nur 0,3 Volt.

Passend zum Thema: [PLUS] Neue Transistor-Formen: So werden neue CPUs und GPUs gefertigt

Der konkret vom MIT gefertigte Transistor soll aus einer vertikalen Nanowire-Struktur mit 6 nm Durchmesser bestehen. Durch die kompakte Bauform wird dabei angeblich gleichzeitig der Bewegungsraum der Elektronen eingeschränkt und damit der Stromfluss verstärkt. Wie üblich ist eine Massenfertigung derzeit aber noch nicht möglich. Diesbezüglich will das MIT aber weiter forschen und unter anderem auch weitere 3D-Strukturen untersuchen. Sollte das Forschungsprojekt hier weitere Ergebnisse erzielen, dürfte ein Unternehmen dabei besonders an einem Einsatz interessiert sein - ein Teil der Forschungsgelder stammt von Intel.

Wann wird Silizium in CPUs und GPUs abgelöst? Nutzen Sie die Kommentarfunktion und teilen Sie uns Ihre Meinung mit. Zum Kommentieren müssten Sie auf PCGH.de oder im Extreme-Forum eingeloggt sein. Sollten Sie noch keinen Account haben, könnten Sie über eine Registrierung nachdenken, die viele Vorteile mit sich bringt. Beachten Sie beim Kommentieren aber bitte die gültigen Forenregeln.

Quelle: MIT via Techspot

3
    • Kommentare (3)

      Zur Diskussion im Forum
      • Von Jaffech BIOS-Overclocker(in)
        0,3v?
        Das passt garnicht zu Intel
      • Von Jaffech BIOS-Overclocker(in)
        0,3v?
        Das passt garnicht zu Intel
      • Von Flatline00 Freizeitschrauber(in)
        Ich denke das die Gelder für die Forschung schon vor einiger zeit investiert wurden, also bevor der Sparkurs so wie heute war.
      • Von Christoph1717 Software-Overclocker(in)
        Zitat

        Gesponsert wird die Forschung dabei von Intel
        Erfreulich das Intel da noch was übrig hat und nicht alles gestrichen hat was geht
      Direkt zum Diskussionsende
  • Print / Abo
    Apps
    PCGH Magazin 07/2026 PC Games 07/2026 play5 07/2026 N-Zone 07/2026 Linux Magazin 07/2026 LinuxUser 07/2026 Raspberry Pi Geek 07/2026
    PC Games Hardware PC Games Linux Magazin Raspberry Pi Geek Computec Kiosk