[08/07/2009] Lösen des Fotolackes (Maßstab: Transistorformat, ~50-200nm): Durch die Belichtung wurden einzelne Stellen des Fotolackes löslich, so dass sie jetzt mit einem speziellen Lösungsmittel weggespült werden können. Zurück bleibt das Muster der Belichtungsmaske.
![[08/07/2009] Lösen des Fotolackes (Maßstab: Transistorformat, ~50-200nm): Durch die Belichtung wurden einzelne Stellen des Fotolackes löslich, so dass sie jetzt mit einem speziellen Lösungsmittel weggespült werden können. Zurück bleibt das Muster der Belichtungsmaske.](/screenshots/1280x1024/2009/07/12_04_etching_1.jpg)
