[08/07/2009] Belichtung (Maßstab: Waferformat, ~300mm): Der Fotolack wird mit UV-Licht bestrahlt. Ähnlich wie in der analogen Fotographie wird an den belichteten Stellen eine chemische Reaktion ausgelöst. Das Belichtungsmuster und damit die späteren Strukturen auf dem Chip, wird durch eine Belichtungsmaske vorgegeben. Dank eines Linsensystems darf diese typischerweise vier mal größer sein, als das gewünschte Abbild.
![[08/07/2009] Belichtung (Maßstab: Waferformat, ~300mm): Der Fotolack wird mit UV-Licht bestrahlt. Ähnlich wie in der analogen Fotographie wird an den belichteten Stellen eine chemische Reaktion ausgelöst. Das Belichtungsmuster und damit die späteren Strukturen auf dem Chip, wird durch eine Belichtungsmaske vorgegeben. Dank eines Linsensystems darf diese typischerweise vier mal größer sein, als das gewünschte Abbild.](/screenshots/1280x1024/2009/07/09_03_patterning_2.jpg)
