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IBM präsentiert Prozess zur 5nm-Fertigung mit GAAFETs Die IBM Research Group präsentiert einen neuen Fertigungsprozess und zeigt zugleich den ersten Chip mit 5-Nanometer Strukturgröße. Statt FinFETs finden auf dem Chips GAAFETs - Gate-All-Around Transitoren - Einsatz. Ebenfalls findet erstmals Extreme Ultraviolet Lithographie breite Anwendung. Bis zur Massenfertigung dürfte es aber noch einige Jahre dauern.

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IBM präsentiert Prozess zur 5nm-Fertigung mit GAAFETs
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[Quelle: IBM]

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[25/06/2017] IBM präsentiert Prozess zur 5nm-Fertigung mit GAAFETs (1)

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