[PLUS] Richtiger Teint dank EUV-Lithografie - Was kommt nach 5 Nanometer?
PCGH Plus: Damit sich auch weiterhin alle 18 Monate die Transistoranzahl auf Mikrochips verdoppelt, müssen neue Produktionsverfahren her. Aktuell arbeitet man mit extrem ultraviolettem Licht im Vakuum. Der Artikel stammt aus PC Games Hardware 02/2020.
Auf dieser Seite
Richtiger Teint dank EUV
Bereits seit 1959, also kurz nachdem Jack Kilby und Robert Noyce unabhängig voneinander den ersten integrierten Schaltkreis erfanden, ging es mit der Miniaturisierung in der Halbleiterindustrie los. Schon wenig später, im Jahre 1965, stellte der spätere Intel-Mitbegründer George Moore deswegen fest, dass sich ungefähr alle zwölf Monate die Komplexität integrierter Schaltkreise verdoppelt - wohlgemerkt bei gleichbleibenden Kosten. Das sogenannte Moore's Law war geboren und erwies sich bis zur Jahrtausendwende als recht treffende Faustregel, die keinen physikalischen oder natürlichen Prozess beobachtet, sondern einen technischen Werdegang beschreibt. Erst durch diese Entwicklung und den rasanten Zuwachs an Transistoren konnte die mikroelektronische Revolution ausgelöst werden, die Grundlage unserer heutigen digitalen Welt. Knapp 50 Jahre später hat man Moore's Law etwas nach oben korrigiert und spricht mittlerweile von einer alle 18 bis 20 Monate stattfindenden Verdopplung.
Die bisherige technische Entwicklung und das ökonomische Wachstum wurden maßgeblich von Moores Faustregel und der stetigen Steigerung der Transistoranzahl bedingt, weshalb die Halbleiterindustrie zwanghaft an dem Dogma festhält. Kleinere Mikrochips können nicht nur schneller arbeiten, sondern sind obendrein auch noch effizienter, sodass für die gleiche Berechnung weniger Strom verbraucht wird. Damit die ununterbrochene Verkleinerung auch bei integrierten Schaltkreisen mit kritischen Dimensionen weiterhin funktioniert, hat sich die EUV-Lithografie in den letzten Jahren als vielversprechendster Kandidat etabliert. Dank extrem ultraviolettem Licht können Strukturgrößen in der Chipherstellung immer weiter verringert werden, bis Silizium als Material die physikalischen Grenzen des Machbaren erreicht.
PC Games Hardware PLUSJetzt für 0,99 € kaufen
oder Werbefreiheit und Zugriff auf alle PLUS-Artikel (Monatsabo)
Für 4,80 EUR PLUS-Abo abschließen Bitte loggen Sie sich in Ihren PCGH-Community-Account ein, um diesen Artikel kaufen zu können. Alle Angebote für PLUS (Monatsabo, Jahresabo, Upgrades für Werbefrei) finden Sie auf unserer Supporter-Seite
Folgende Produkte finden Sie im Artikel:
- Grundprinzip der Lithografie
- Schematisches Vorgehen bei der Fotolithografie
- Das Lichtspektrum der Fotolithografie in der Halbleiterindustrie
- Laser als Lichtquelle
- Im Inneren einer EUV-Lithografieanlage
- EUV-Lichtquelle: Plasma-Erzeugung
- Fotoresist: Fast ein Ding der Unmöglichkeit
- 5 nm: Was kommt dann?
Als PCGH-Digital-Abonnent erhalten Sie kostenfrei Zugriff auf alle PLUS-Artikel.
