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[08/07/2009] Polieren (Maßstab: Transistorformat, ~50-200nm): Das überschüssige Material wird durch polieren entfernt. Zurück bleiben die mit Kupfer ausgefüllten Löcher in der Isolierschicht - die Kontakte des Transistors.
![[08/07/2009] Polieren (Maßstab: Transistorformat, ~50-200nm): Das überschüssige Material wird durch polieren entfernt. Zurück bleiben die mit Kupfer ausgefüllten Löcher in der Isolierschicht - die Kontakte des Transistors.](/screenshots/1280x1024/2009/07/24_07_interconnections_1.jpg)
