[19/06/2009] Die für die 16-Nanometer-Serienproduktion geplanten 13,5 Nanometer EUV-Belichtungsverfahren erfordern in allen Bereichen der Chipfertigung neue Techniken - angefangen bei der Strahlungsquelle über Belichtungsmasken, bis hin zur Entwicklung eines Photolackes mit den gewünschten Eigenschaften.
![[19/06/2009] Die für die 16-Nanometer-Serienproduktion geplanten 13,5 Nanometer EUV-Belichtungsverfahren erfordern in allen Bereichen der Chipfertigung neue Techniken - angefangen bei der Strahlungsquelle über Belichtungsmasken, bis hin zur Entwicklung eines Photolackes mit den gewünschten Eigenschaften.](/screenshots/1280x1024/2009/06/Intel15nm2.JPG)
